雖然表面上看，光刻機是半導(dǎo)體制造的工具之一，但它的背后涉及復(fù)雜的多學科交叉與全球化合作。 1. 極端紫外光源的挑戰(zhàn)：就像尋找“完美的燈泡” EUV光刻機依賴于波長僅為13.5納米的極端紫外線（EUV）光源，而這種光源的產(chǎn)生與控制是最大的技術(shù)挑戰(zhàn)之一。你可以把EUV光源想象成一個非常難以控制的“燈泡”，但這個……

SoC（ on Chip）作為芯片設(shè)計的主流，已經(jīng)成為現(xiàn)代集成電路技術(shù)發(fā)展的核心。 1、SoC設(shè)計的核心思想 從結(jié)構(gòu)上來看，SoC可以理解為把一個完整系統(tǒng)的所有功能電路都設(shè)計并集成在一個芯片中，形成一個高度集成的單元。傳統(tǒng)的電子系統(tǒng)設(shè)計通常是將不同的功能模塊分別制作成獨立的芯片，然后通過電路板上的連接將這些芯片集成到一個系統(tǒng)中。而SoC技術(shù)則直接將這些模塊在芯片制造時集成在一起，形成一個系統(tǒng)化的單芯片解決方案。 我們可以用“多合一工具”來形象化這個過程。傳統(tǒng)的電子設(shè)計就像是你在使

SoC（系統(tǒng)級芯片）與SiP（系統(tǒng)級封裝）兩種技術(shù)都是現(xiàn)代集成電路發(fā)展的重要里程碑，它們都能實現(xiàn)電子系統(tǒng)的小型化、高效化和集成化。 一、SoC（系統(tǒng)級芯片）和SiP（系統(tǒng)級封裝）的定義及基本思路 SoC（System on Chip）——將整個系統(tǒng)“擠”進一個芯片 SoC 就像一棟高樓，把所有的功能模塊都設(shè)計、集成到同一個物理芯片上。SoC的核心思想是將整個電子系統(tǒng)的核心部件，包括處理器（CPU）、存儲器、通信模塊、模擬電路、傳感器接口等多種不同功能模塊全部集成在一個芯片上。SoC的優(yōu)勢

1. Defect “Defect”指的是在晶圓生產(chǎn)過程中出現(xiàn)的缺陷，可能是由于工藝不穩(wěn)定、設(shè)備問題或材料瑕疵導(dǎo)致的。這些缺陷可能包括顆粒污染、圖形失真、晶體結(jié)構(gòu)破損等，都會影響最終產(chǎn)品的質(zhì)量。 通俗解釋：就是生產(chǎn)過程中出現(xiàn)的“瑕疵”或“不良”，這些問題可能影響芯片的正常功能。 2. Fail ……

RIE干法刻蝕技術(shù)憑借其優(yōu)越的各向異性刻蝕能力和良好的選擇比控制，已成為半導(dǎo)體制造中不可或缺的核心工藝。 一、RIE干法刻蝕技術(shù)的基本原理 RIE（Reactive Ion Etching，反應(yīng)離子刻蝕）作為一種主流的干法刻蝕技術(shù)，通過等離子體中的活性物質(zhì)對材料表面進行選擇性刻蝕，以達到精確移除材料的目的。 圖：干法刻蝕概要 RIE刻蝕技術(shù)屬于一種等離子體輔助的干法刻蝕工藝?？涛g過程中，通過在反應(yīng)腔內(nèi)引入刻蝕氣體并施加射頻電場，在電場作用下刻蝕氣體被電離和激發(fā)，形成等離子體

在半導(dǎo)體制造和晶圓工藝設(shè)備維護中，"Second Source"（二次來源）指的是使用非原廠供應(yīng)商生產(chǎn)的零件或耗材來替代原廠零件。這種策略有助于降低成本、減少對單一供應(yīng)商的依賴，同時確保制造的持續(xù)性和靈活性。 1. 什么是Second Source？ Second Source是指在生產(chǎn)制造過程中，為了降低……

SPC (Statistical Process Control) 是晶圓生產(chǎn)工藝中非常重要的工具，用于監(jiān)控、控制和改進制造過程中各個環(huán)節(jié)的穩(wěn)定性。 1. SPC 系統(tǒng)的概述 SPC 是一種通過統(tǒng)計方法監(jiān)控和控制制造過程的方法。其核心是通過實時數(shù)據(jù)的采集和分析來檢測生產(chǎn)過程中是否有異常情況發(fā)生，從而幫助工程師做出及時的調(diào)整和決策。SPC的目標是在生產(chǎn)過程中減少變異，確保產(chǎn)品質(zhì)量穩(wěn)定并符合規(guī)格。 SPC在蝕刻工藝中用于： 監(jiān)控關(guān)鍵設(shè)備參數(shù)（如蝕刻速率、RF功率、腔體壓力、溫度等）