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國產(chǎn)1.8億像素相機全畫幅CMOS圖像傳感器試產(chǎn)成功!(薩科微8月21日每日芯聞)
  • 更新日期: 2024-08-21
  • 瀏覽次數(shù): 1424
晶合集成與思特威聯(lián)合推出的首顆1.8億像素全畫幅CIS芯片成功試產(chǎn),打破了日本索尼在超高像素全畫幅CIS領(lǐng)域長期壟斷地位。
金航標和薩科微智“鏈”2024未來外貿(mào)大會
  • 更新日期: 2024-08-21
  • 瀏覽次數(shù): 1650
8月15日,一場專屬全球外貿(mào)人的知識嘉年華——2024未來外貿(mào)大會在深圳國際會展中心舉辦,3大主題,6大嘉賓,3000+外貿(mào)人在此集結(jié)!薩科微Slkor(www.slkoric.com)外貿(mào)部總監(jiān)丘輝林、金航標Kinghelm(www.kinghelm.net)外貿(mào)部經(jīng)理宋沅明等參加大會。金航標和薩科微總經(jīng)理宋仕強先生……
2024年深圳“川渝籃球聯(lián)賽”抽簽儀式舉行
  • 更新日期: 2024-08-20
  • 瀏覽次數(shù): 1395
8月18日,2024深圳川渝籃球聯(lián)賽抽簽儀式在深舉行,本次聯(lián)賽是由深圳美麗魔方健康投資集團冠名贊助支持,金航標電子(www.kinghelm.com.cn)、泓龍電子、光馳電子等贊助和協(xié)辦。金航標Kinghelm和薩科微Slkor(www.jj-led.cn)總經(jīng)理宋仕強先生代表參賽隊伍“西充商會籃球隊”參與……
2024全球AI芯片峰會(GACS 2024)將在京舉行(薩科微8月20日芯聞)
  • 更新日期: 2024-08-20
  • 瀏覽次數(shù): 1209
9月6-7日,2024全球AI芯片峰會(GACS 2024)將在北京新云南皇冠假日酒店盛大舉辦。
釣魚維權(quán)當休矣!長沙米拓碰瓷薩科微遭強力狙擊!
  • 更新日期: 2024-08-20
  • 瀏覽次數(shù): 3616
天下苦釣魚維權(quán)久也!深圳市薩科微半導體有限公司(下稱薩科微)又又又被臭名昭著的專利流氓“長沙米拓”(下稱米拓)訛上了,案由是薩科微幾年前的官網(wǎng),侵權(quán)使用了米拓開發(fā)的網(wǎng)站模板,要求賠償一萬元再賠禮道歉。宋仕強介紹說,真讓人防不勝防煩不勝煩,這已經(jīng)是今年金航標電子公司和薩科微(www.jj-led.cn)遇到的第……
薩科微張軍軍的“芯”路歷程
  • 更新日期: 2024-08-19
  • 瀏覽次數(shù): 2273
張軍軍的故事雖沒有企業(yè)家那般跌宕起伏、璀璨奪目,也沒有蟬聯(lián)銷售冠軍的耀眼成績,但他對自己職業(yè)的不斷堅持和深耕,他所展現(xiàn)出來的堅韌不拔、不斷進取的精神,卻像眾多來深努力奮斗的一個縮影。
晶圓測試與芯片測試有什么不同?
  • 更新日期: 2024-08-19
  • 瀏覽次數(shù): 1369
晶圓測試(CP)屬于“晶圓級”工藝,數(shù)千顆甚至數(shù)萬顆裸芯片高度集成于一張晶圓上,對測試作業(yè)的潔凈等級、作業(yè)的精細程度、大數(shù)據(jù)的分析能力等要求較高,因此技術(shù)實力較強的測試廠商通過精益生產(chǎn)能夠?qū)崿F(xiàn)更好的效益,拉開與其他對手的差距。
蘋果向第三方開放NFC支付芯片并收取費用(薩科微8月19日每日芯聞)
  • 更新日期: 2024-08-19
  • 瀏覽次數(shù): 1088
開發(fā)者需要與蘋果公司簽訂一份商業(yè)協(xié)議,申請NFC和SE授權(quán),并支付相關(guān)費用。
泰凌微電子:公司芯片全球出貨量突破20億顆(薩科微8月16日每日芯聞)
  • 更新日期: 2024-08-17
  • 瀏覽次數(shù): 1133
泰凌微電子近期迎來了一個令人矚目的里程碑--公司芯片的全球累計出貨量突破20億顆。
全球芯片之城,中國上海和北京實至名歸?。ㄋ_科微8月17日芯聞)
  • 更新日期: 2024-08-17
  • 瀏覽次數(shù): 1384
《2023年全球集成電路產(chǎn)業(yè)綜合競爭力百強城市白皮書》公布,中國上海和北京分別以第5名和第9名的成績躋身前十。
Semicon半導體工藝:干法刻蝕與濕法刻蝕的區(qū)別和特點
  • 更新日期: 2024-08-16
  • 瀏覽次數(shù): 2295
半導體制造工藝中的刻蝕是利用物理和(/或)化學方法有選擇性地從晶圓表面去除不必要材料的過程??涛g工藝通常位于光刻工藝之后,利用刻蝕工藝對定義圖形的光阻層侵蝕少而對目標材料侵蝕大的特點,從而完成圖形轉(zhuǎn)移的工藝步驟??涛g工藝主要分為干法和濕法兩種。
3納米制程芯片為什么需要EUV光刻機和多重曝光技術(shù)?
  • 更新日期: 2024-08-16
  • 瀏覽次數(shù): 1760
晶圓制造工藝是一個非常復雜的過程,特別是在3納米制程中,挑戰(zhàn)會更加顯著。讓我們一步步來理解EUV(極紫外光刻)多重圖案(Multi-Patterning)技術(shù)在實現(xiàn)圖案分辨率時所面臨的挑戰(zhàn)。

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